循环水机的选型：
一、明确核心需求
1.温度控制精度
关键指标：根据实验设备要求选择温控精度（如±0.1℃、±0.5℃）。
2. 应用场景：
化学、生物领域：氢氧测定仪、旋转蒸发仪、CCD、生物发酵罐、化学反应器（合成器）等。
材料领域：石墨炉原子原子吸收、等离子光谱仪（ICP）真空镀膜电镜、X射线衍射仪、X荧光衍射仪、真空炉、镀膜机、ICP刻蚀、各种半导体设备、疲劳试验机、离子减薄仪、离子束外延设备、气相外延设备、化学沉积系统、原子沉积系统等等。
物理领域：激光器（各种型号）、磁场、超导、低温探头、各种分子泵以及包括材料领域使用的各种需水冷设备。
医疗器械：核磁共振、超导磁共振、直线加速器、CT、X光机
3.制冷量与热负荷
计算依据：根据设备发热量（功率×60%～80%）+环境热负荷。
冗余设计：预留10%~20%余量，避免满负荷运行。
4.水温范围：
常规需求：5℃~35℃（常规仪器散热）。
特殊需求：低温实验需-10℃~-100℃。
二、技术特性选择
2.1控温技术
PID算法：确保动态温度稳定性，减少波动。
多通道独立控温：适配多台设备同时运行（如多反应釜独立冷却）。
2.2水质与材料
水路材质：选择SUS316L不锈钢或钛合金，避免金属离子污染。
闭式循环+去离子系统：防止水垢和微生物滋生（电阻率≥15MΩ·cm）。
噪音控制
http://www.dwxchiller.com/SonList-1958600.html
https://www.chem17.com/st419043/erlist_1958600.html
